雷射熱擴散
量測方法:ASTM E1461、DIN EN 821 、DIN 30905。
在科研與工業領域，深入瞭解材料的熱物理性能，從而優化最終產品的導熱性能，已經變得越來越重要。在過去的幾十年裏，鐳射閃射法已經發展成為最為廣泛使用的導熱測量技術，用於測量不同種類的固體、粉末與液體樣品的熱擴散係數與導熱係數。該方法測量的樣品通常為小圓片或方片狀，兩面平行，使用一束短促的雷射脈衝加熱樣品正面，通過紅外檢測器測量樣品背面溫度升高對時間的關係，經擬合計算得到樣品的熱擴散係數與導熱係數。這一非接觸式與非破壞式的測量技術具有樣品製備簡易，所需的樣品體積小，測量速度快，測量精度高等眾多優點。
硬體
NETZSCH LFA MicroFlash™代表了當代鐳射閃射測量技術的最新進展。儀器為桌上型，溫度範圍RT ～1100℃。系統也能夠測量較大體積的樣品（直徑25.4mm），或使用內置的自動樣品切換器在一次升溫中對多個樣品進行測量。真空密閉系統使得儀器可以在多種氣氛中進行測量。樣品支架、爐體與檢測器的垂直式排布方便了樣品的切換，同時使得檢測信號擁有最佳的信噪比。LFA的設計符合各類國際標準，如ASTM E-1461，DIN EN 821 或DIN 30905。
溫度範圍：
高溫爐體：RT ～1100℃
測量範圍：
熱擴散係數：0.001 ... 10 cm2/s
導熱係數範圍：0.1 ... 2000 W/(m*K)
樣品幾何尺寸：
方形樣品：10mm ×10mm
圓形樣品： 12.7mm, 25.4mm
厚度：0.05 ... 5mm
樣品切換器：最大樣品數3 （25.4mm 除外）
熱擴散係數測量的高速度與高重複性已使得這一技術成為導熱係數測量的首選方法，取代傳統的穩態測量方法。若材料的比熱Cp 與密度ρ已知，則通過測量熱擴散係數α，便可計算出材料的導熱係數λ：
λ(T) = α(T) · Cp (T) · ρ(T)
材料的比熱可在LFA 中通過比較法進行測量，也可使用差示掃描量熱法DSC，該方法測量比熱更為方便、靈活，精度更高，且能提供關於材料的一些附加資訊，如相轉變溫度與熱焓等。
儀器
奈米中心-熱傳導分析儀
奈米中心-熱膨脹分析儀
奈米中心-熱重顯示差同步分析儀
奈米中心-有/無機材料薄膜能隙量測儀
奈米中心-橢圓儀
奈米中心-原位拉曼光譜儀
奈米中心-傅立葉轉換紅外線光譜儀
奈米中心-紫外光可見近紅外光光譜儀
奈米中心-螢光分光光譜儀
奈米中心-原子力顯微鏡 AFM
奈米中心-穿透式電子顯微鏡 TEM
奈米中心-掃瞄式電子顯微鏡SEM
奈米中心-X射線繞射儀 XRD
奈米中心-化學吸/脫附混合氣體質量控制器
奈米中心-奈米粉體熔融混練機
奈米中心-可攜式即時連續氣體分析質譜儀
奈米中心-高濃度超微粒徑分部儀
奈米中心-雷射粒徑分析儀
奈米中心-全自動界面電位分析儀
奈米中心-射頻磁控濺鍍機
奈米中心-振動樣品磁力計VSM
奈米中心-鐵電薄膜分析儀
奈米中心-S-parameter network analyzer
奈米中心-Switch/control system
奈米中心-半導體參數分析儀 I-V Curve
奈米中心-Agilent 4284A 精密型 LCR 錶
奈米中心-兩點探針系統
奈米中心-射頻阻抗分析儀
奈米中心-阻抗分析儀 C-V Curve
奈米中心-High resistant meter
奈米中心-高電阻測定儀 Milliohmmeter
奈米中心-高溫玻璃熔煉爐
奈米中心-低溫玻璃熔煉爐
奈米中心-氣氛燒結爐(BME)-1400度
奈米中心-1700度燒結爐
奈米中心-1400度燒結爐
奈米中心-快速退火爐
奈米中心-薄帶機
奈米中心-網版印刷機
奈米中心-噴霧造粒機
奈米中心-熱水均壓機
奈米中心-鑽石切割機
奈米中心-硬磁缽組
奈米中心-磨粉特殊耐腐蝕Cyclone上蓋
奈米中心-電動磨粉機
奈米中心-玻璃研磨機
奈米中心-旋鍍機
在科研與工業領域，深入瞭解材料的熱物理性能，從而優化最終產品的導熱性能，已經變得越來越重要。在過去的幾十年裏，鐳射閃射法已經發展成為最為廣泛使用的導熱測量技術，用於測量不同種類的固體、粉末與液體樣品的熱擴散係數與導熱係數。該方法測量的樣品通常為小圓片或方片狀，兩面平行，使用一束短促的雷射脈衝加熱樣品正面，通過紅外檢測器測量樣品背面溫度升高對時間的關係，經擬合計算得到樣品的熱擴散係數與導熱係數。這一非接觸式與非破壞式的測量技術具有樣品製備簡易，所需的樣品體積小，測量速度快，測量精度高等眾多優點。
硬體
NETZSCH LFA MicroFlash™代表了當代鐳射閃射測量技術的最新進展。儀器為桌上型，溫度範圍RT ～1100℃。系統也能夠測量較大體積的樣品（直徑25.4mm），或使用內置的自動樣品切換器在一次升溫中對多個樣品進行測量。真空密閉系統使得儀器可以在多種氣氛中進行測量。樣品支架、爐體與檢測器的垂直式排布方便了樣品的切換，同時使得檢測信號擁有最佳的信噪比。LFA的設計符合各類國際標準，如ASTM E-1461，DIN EN 821 或DIN 30905。
溫度範圍：
高溫爐體：RT ～1100℃
測量範圍：
熱擴散係數：0.001 ... 10 cm2/s
導熱係數範圍：0.1 ... 2000 W/(m*K)
樣品幾何尺寸：
方形樣品：10mm ×10mm
圓形樣品： 12.7mm, 25.4mm
厚度：0.05 ... 5mm
樣品切換器：最大樣品數3 （25.4mm 除外）
熱擴散係數測量的高速度與高重複性已使得這一技術成為導熱係數測量的首選方法，取代傳統的穩態測量方法。若材料的比熱Cp 與密度ρ已知，則通過測量熱擴散係數α，便可計算出材料的導熱係數λ：
λ(T) = α(T) · Cp (T) · ρ(T)
材料的比熱可在LFA 中通過比較法進行測量，也可使用差示掃描量熱法DSC，該方法測量比熱更為方便、靈活，精度更高，且能提供關於材料的一些附加資訊，如相轉變溫度與熱焓等。
儀器
奈米中心-熱傳導分析儀
奈米中心-熱膨脹分析儀
奈米中心-熱重顯示差同步分析儀
奈米中心-有/無機材料薄膜能隙量測儀
奈米中心-橢圓儀
奈米中心-原位拉曼光譜儀
奈米中心-傅立葉轉換紅外線光譜儀
奈米中心-紫外光可見近紅外光光譜儀
奈米中心-螢光分光光譜儀
奈米中心-原子力顯微鏡 AFM
奈米中心-穿透式電子顯微鏡 TEM
奈米中心-掃瞄式電子顯微鏡SEM
奈米中心-X射線繞射儀 XRD
奈米中心-化學吸/脫附混合氣體質量控制器
奈米中心-奈米粉體熔融混練機
奈米中心-可攜式即時連續氣體分析質譜儀
奈米中心-高濃度超微粒徑分部儀
奈米中心-雷射粒徑分析儀
奈米中心-全自動界面電位分析儀
奈米中心-射頻磁控濺鍍機
奈米中心-振動樣品磁力計VSM
奈米中心-鐵電薄膜分析儀
奈米中心-S-parameter network analyzer
奈米中心-Switch/control system
奈米中心-半導體參數分析儀 I-V Curve
奈米中心-Agilent 4284A 精密型 LCR 錶
奈米中心-兩點探針系統
奈米中心-射頻阻抗分析儀
奈米中心-阻抗分析儀 C-V Curve
奈米中心-High resistant meter
奈米中心-高電阻測定儀 Milliohmmeter
奈米中心-高溫玻璃熔煉爐
奈米中心-低溫玻璃熔煉爐
奈米中心-氣氛燒結爐(BME)-1400度
奈米中心-1700度燒結爐
奈米中心-1400度燒結爐
奈米中心-快速退火爐
奈米中心-薄帶機
奈米中心-網版印刷機
奈米中心-噴霧造粒機
奈米中心-熱水均壓機
奈米中心-鑽石切割機
奈米中心-硬磁缽組
奈米中心-磨粉特殊耐腐蝕Cyclone上蓋
奈米中心-電動磨粉機
奈米中心-玻璃研磨機
奈米中心-旋鍍機