奈米粒徑量測
粒徑分析儀，量測方法: ISO 9276-2
本中心兩種粒徑分析儀，靜態光散射Static Light Scattering (SLS) Laser Diffraction Particle Size Distribution Analysis 及 動態光散射Dynamic Light Scattering (DLS)或光子相關光譜法 (Photon Correlation Spectroscopy, PCS)。SLS這是一種高精度、非破壞性的奈米技術，透過偵測液體中懸浮顆粒，透過檢測特定角度下的散射光強度，測量光強度的角度分佈，分析顆粒的形狀和粒度分佈，適用於粒徑較大（次微米至毫米）或大分子分子量，量測範圍5nm~3mm動態光散射 (DLS) 測量光強度的時間波動（布朗運動），擅長奈米級粒子。 量測範圍3nm~6um。粒徑分析儀適用於懸浮液、乳化液及粉末。
粒徑量測(PSA)粒徑分佈圖，由於顆粒形狀的複雜性，一般很難直接用單一尺度來描述一個顆粒大小，因此，粒度大小的描述廣泛採用等效粒徑的概念。對於不同原理的粒度分析儀，所依據測量原理不同，其顆粒特性也不相同，只能進行等校比對。動態光散射：當激光束照射到溶液中的懸浮顆粒時，由於顆粒的隨機布朗運動，使顆粒產生的散射光強也將不斷起伏波動，又稱光相關法(PCS)。
布朗運動：溶液中，粒子由熱導致溶劑分子發生隨機碰撞的運動。 這樣品應要容易分散在液體介質中，懸浮液之選擇：•透明•與溶質粒子有不同的折射率•避免樣品沉澱、黏附於壁面或黏結成塊•不會與樣品產生反應•有準確的折射率與黏度 是用來表示particle size 分佈的一種表示方示.d10 = 1.9 代表粒徑< 1.9um 的顆粒佔所有粉末顆粒的10% (體積)d50 = 3.8 代表粒徑< 3.8um 的顆粒佔所有粉末顆粒的50% (體積)d10 = 11 代表粒徑< 11um 的顆粒佔所有粉末顆粒的90% (體積)mode size 峰值平均粒徑數學的平均粒徑將粒徑乘以個別體積百分比再加起來。
奈米中心-熱傳導分析儀
奈米中心-熱膨脹分析儀
奈米中心-熱重顯示差同步分析儀
奈米中心-有/無機材料薄膜能隙量測儀
奈米中心-橢圓儀
奈米中心-原位拉曼光譜儀
奈米中心-傅立葉轉換紅外線光譜儀
奈米中心-紫外光可見近紅外光光譜儀
奈米中心-螢光分光光譜儀
奈米中心-原子力顯微鏡 AFM
奈米中心-穿透式電子顯微鏡 TEM
奈米中心-掃瞄式電子顯微鏡SEM
奈米中心-X射線繞射儀 XRD
奈米中心-化學吸/脫附混合氣體質量控制器
奈米中心-奈米粉體熔融混練機
奈米中心-可攜式即時連續氣體分析質譜儀
奈米中心-高濃度超微粒徑分部儀
奈米中心-雷射粒徑分析儀
奈米中心-全自動界面電位分析儀
奈米中心-射頻磁控濺鍍機
奈米中心-振動樣品磁力計VSM
奈米中心-鐵電薄膜分析儀
奈米中心-S-parameter network analyzer
奈米中心-Switch/control system
奈米中心-半導體參數分析儀 I-V Curve
奈米中心-Agilent 4284A 精密型 LCR 錶
奈米中心-兩點探針系統
奈米中心-射頻阻抗分析儀
奈米中心-阻抗分析儀 C-V Curve
奈米中心-High resistant meter
奈米中心-高電阻測定儀 Milliohmmeter
奈米中心-高溫玻璃熔煉爐
奈米中心-低溫玻璃熔煉爐
奈米中心-氣氛燒結爐(BME)-1400度
奈米中心-1700度燒結爐
奈米中心-1400度燒結爐
奈米中心-快速退火爐
奈米中心-薄帶機
奈米中心-網版印刷機
奈米中心-噴霧造粒機
奈米中心-熱水均壓機
奈米中心-鑽石切割機
奈米中心-硬磁缽組
奈米中心-磨粉特殊耐腐蝕Cyclone上蓋
奈米中心-電動磨粉機
奈米中心-玻璃研磨機
奈米中心-旋鍍機
本中心兩種粒徑分析儀，靜態光散射Static Light Scattering (SLS) Laser Diffraction Particle Size Distribution Analysis 及 動態光散射Dynamic Light Scattering (DLS)或光子相關光譜法 (Photon Correlation Spectroscopy, PCS)。SLS這是一種高精度、非破壞性的奈米技術，透過偵測液體中懸浮顆粒，透過檢測特定角度下的散射光強度，測量光強度的角度分佈，分析顆粒的形狀和粒度分佈，適用於粒徑較大（次微米至毫米）或大分子分子量，量測範圍5nm~3mm動態光散射 (DLS) 測量光強度的時間波動（布朗運動），擅長奈米級粒子。 量測範圍3nm~6um。粒徑分析儀適用於懸浮液、乳化液及粉末。
粒徑量測(PSA)粒徑分佈圖，由於顆粒形狀的複雜性，一般很難直接用單一尺度來描述一個顆粒大小，因此，粒度大小的描述廣泛採用等效粒徑的概念。對於不同原理的粒度分析儀，所依據測量原理不同，其顆粒特性也不相同，只能進行等校比對。動態光散射：當激光束照射到溶液中的懸浮顆粒時，由於顆粒的隨機布朗運動，使顆粒產生的散射光強也將不斷起伏波動，又稱光相關法(PCS)。
布朗運動：溶液中，粒子由熱導致溶劑分子發生隨機碰撞的運動。 這樣品應要容易分散在液體介質中，懸浮液之選擇：•透明•與溶質粒子有不同的折射率•避免樣品沉澱、黏附於壁面或黏結成塊•不會與樣品產生反應•有準確的折射率與黏度 是用來表示particle size 分佈的一種表示方示.d10 = 1.9 代表粒徑< 1.9um 的顆粒佔所有粉末顆粒的10% (體積)d50 = 3.8 代表粒徑< 3.8um 的顆粒佔所有粉末顆粒的50% (體積)d10 = 11 代表粒徑< 11um 的顆粒佔所有粉末顆粒的90% (體積)mode size 峰值平均粒徑數學的平均粒徑將粒徑乘以個別體積百分比再加起來。
奈米中心-熱傳導分析儀
奈米中心-熱膨脹分析儀
奈米中心-熱重顯示差同步分析儀
奈米中心-有/無機材料薄膜能隙量測儀
奈米中心-橢圓儀
奈米中心-原位拉曼光譜儀
奈米中心-傅立葉轉換紅外線光譜儀
奈米中心-紫外光可見近紅外光光譜儀
奈米中心-螢光分光光譜儀
奈米中心-原子力顯微鏡 AFM
奈米中心-穿透式電子顯微鏡 TEM
奈米中心-掃瞄式電子顯微鏡SEM
奈米中心-X射線繞射儀 XRD
奈米中心-化學吸/脫附混合氣體質量控制器
奈米中心-奈米粉體熔融混練機
奈米中心-可攜式即時連續氣體分析質譜儀
奈米中心-高濃度超微粒徑分部儀
奈米中心-雷射粒徑分析儀
奈米中心-全自動界面電位分析儀
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奈米中心-振動樣品磁力計VSM
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奈米中心-S-parameter network analyzer
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奈米中心-半導體參數分析儀 I-V Curve
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奈米中心-射頻阻抗分析儀
奈米中心-阻抗分析儀 C-V Curve
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奈米中心-高電阻測定儀 Milliohmmeter
奈米中心-高溫玻璃熔煉爐
奈米中心-低溫玻璃熔煉爐
奈米中心-氣氛燒結爐(BME)-1400度
奈米中心-1700度燒結爐
奈米中心-1400度燒結爐
奈米中心-快速退火爐
奈米中心-薄帶機
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奈米中心-硬磁缽組
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奈米中心-電動磨粉機
奈米中心-玻璃研磨機
奈米中心-旋鍍機