橢圓偏光術是一種非接觸式、非破壞性，以光學技術量測表面薄膜特性的方法。當一束偏極光經過物體表面或界面時，其極化狀態會被改變。而橢圓儀就是藉由偵測樣品表面的反射光，來量測此改變(既反射光和入射光的振幅及相位的改變量)，以決定表面特性和薄膜的光學常數(n,k值)及膜厚。

光譜式橢圓儀能在寬廣的光譜波長上量測到不同的偏光度對反射光強度關係。

光譜式橢圓儀不需要參考片或參考光束。

可同時量測三層以上之膜厚。

光點大小：2mm x 4mm
（可擴充至200μm x 400μm）

搭配XY自動平台150mm或300mm，可進行全平面膜厚掃描，並可繪製3D膜厚分佈。

 

橢圓偏光術：

當一束線偏振光 ( linearly polarized light ) 斜向射入到一個平滑金屬表面，從金屬表面反射的光通常為橢圓偏振光 ( elliptically polarized light )。橢圓偏光術 ( ellipsometry ) 為利用偏振光射入到待測樣本表面，分析反射光偏振態的一種精密量測技術。橢圓儀的量測方法是量測待測樣本表面的橢偏參數 ( ellipsometric parameter )：y 和 D，這兩個參數與反射光的水平偏振與垂直偏振分量的振幅反射係數 ( amplitude reflection coefficients ) 比值有關。在使用橢圓儀量測材料的橢偏參數之後，依據材料特性預先建立好的物理模型，即可推算出材料的光學特性。由於橢圓儀是採用光學的方式進行量測，以及其對光的偏振態靈敏的特性，因此屬於非破壞性檢測 ( non-destructive testing ) 且具有很高的量測精準度。在實際應用上，橢圓儀是最常被用來量測光學薄膜厚度以及折射率的量測儀器之一，亦被廣泛應用在半導體工業、生物醫學、化學以及材料科學等領域的研究。

 

應用例：

利用橢圓儀技術，可探討應用於太陽能電池的透明導電膜及非晶矽膜的光學性質。鍍製於玻璃基材上的ITO(Indium Tin Oxide)和非晶矽膜(α-Si:H)，量測波長範圍為300 nm~ 1200 nm，利用套裝軟體進行量測數據與模擬數據的擬合，可求得兩種材料的光學常數。

一.樣品規格：請洽中心電話詢問。

二.分析測試時，若發現送測樣品不合規定，樣品將被退回，但仍須收基本運費500元。

儀器放置於材資館三樓奈米光電磁材料技術研發中心，電話(02)27712171轉2758，檢測時間為週一至週五(國定例假日)上午八點至下午五點。